14.下列選項中標示的氫,何者化學位移(δ)最大?
(A)
(B)
(C)
(D)
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統計: A(21), B(6), C(34), D(6), E(0) #3973453
統計: A(21), B(6), C(34), D(6), E(0) #3973453
詳解 (共 2 筆)
#7450077
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| 結構 | 化學位移(δ) | 結構 | 化學位移(δ) |
(A) ![]() |
6.5~8 | toluene上的甲基 | 2~3 |
(B) ![]() |
4.5~6.5 | 醇類之羥基(ROH) | 3.5-4 ppm |
(C) ![]() |
9~10 | Carboxylic acid(RCOOH) | 10.5~12ppm |
(D) ![]() |
2.5(2~3) | cyclopropane | 0.2 ppm |
其他考點:
- 有機分子中質子之化學位移(ppm)值範圍:0~12ppm
- 鹵素越多拉電子基越多,拉電子基導致去遮蔽,化學位移大、低磁場
- 影響質子化學位移的因素:Anisotropic effect、Inductive effect、Mesomeric effect
考古
55 測定核磁共振光譜時,通常有機分子中質子之化學位移(ppm)值範圍為多少?
(A) -2~6
(B) 0~6
(C) 0~12
(D) 6~12
答案:C
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24.在氫核磁共振光譜中,下列何者的化學位移最大?
(A) CH4
(B) CH3Cl
(C) CH2Cl2
(D) CHCl3
答案:D
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18.在
的氫核磁共振光譜中,那個位置的氫核具有最大的化學位移?
的氫核磁共振光譜中,那個位置的氫核具有最大的化學位移?(A) a
(B) b
(C) c
(D) d
答案:C
甲氧基團為推電子基團,使化學位移(δ)下降
| 苯環連接基團 | 化學位移(δ) |
| 推電子基團 |
下降
化學位移(δ):o<p<m(記:推媒婆)
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| 拉電子基團(想成吸) |
上升
化學位移(δ):o>p>m(記:吸opium)
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63 下列何者在氫核磁共振光譜中的化學位移(ppm)最大?
(A) CH 3 -C
(B) CH 3 -N
(C) CH 3 -O
(D) CH 3 -CO
答案:C
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22.在氫核磁共振光譜中,下列何者的甲基化學位移最大?
(A) CH3 F
(B) CH3 Cl
(C) CH3 Br
(D) CH3 I
答案:A
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52 苯環含下列那一種取代基,會使該取代基之對位氫核在氫核磁共振光譜中的化學位移(ppm)最小?
(A) Cl
(B) CH 3
(C) NH 2
(D) NO 2
答案:C
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19. 在
的氫核磁共振光譜中,X為下列何者時,其對位氫核的化學位移最 大?
的氫核磁共振光譜中,X為下列何者時,其對位氫核的化學位移最 大?(A) CH3
(B) Cl
(C) NO2
(D) OH
答案:C
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21. 在 的氫核磁共振光譜中,那個位置的氫原子具有最大的化學位移?
(A) a
(B) b
(C) c
(D) d
答案:A
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18.下列化學結構之芳香環氫中,化學位移最小的是幾號氫?

(A) 1
(B) 2
(C) 3
(D) 4
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答案:A
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(A) Hb>Ha
(B) Hb>Hc
(C) Hc>Hd
(D) Hd>Ha
答案:D
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8.下列何者在氫核磁共振光譜中的化學位移(ppm)最大?
(A) CH4
(B) C6 H6
(C) CH3 I
(D) CH2 Cl2
答案:B
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甲苯(toluene)在氫核磁共振光譜中共有二組訊號39.其中甲基上質子的化學位移(ppm)值落在那一區間?
(A) 0~1.5
(B) 2~3
(C) 5.5~6.5
(D) 6.5~8
答案:B
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30 Aldehyde (RCHO)基團其質子的化學位移 (Chemical shift) 最可能出現在核磁共振光譜圖上的那個範圍?
(A) 1~4 ppm
(B) 5~8 ppm
(C) 9~10 ppm
(D) 11~12 ppm
答案:C
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(A) 9.96 ppm
(B) 7.81 ppm
(C) 7.29 ppm
(D) 2.27 ppm
答案:A
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19. 在化合物
的氫核磁共振光譜中,下列何者最可能是Ha的化學位移?
的氫核磁共振光譜中,下列何者最可能是Ha的化學位移? (A) 1.5 ppm
(B) 2.5 ppm
(C) 5.5 ppm
(D) 7.5 ppm
答案:C
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8 在以TMS 為對照品之核磁共振圖譜中,芳香基團上氫核之化學位移約為:
(A) 1-5 ppm
(B) 10.5-12 ppm
(C) 3.5-4 ppm
(D) 6-8.5 ppm
答案:D
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答案:B
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53 在以TMS 為對照品之核磁共振圖譜中,醇類之羥基(ROH)上氫核之化學位移約為:
(A) 1~2 ppm
(B) 10.5~12 ppm
(C) 3.5~4 ppm
(D) 6~8.5 ppm
答案:C
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49 Carboxylic acid(RCOOH)基團其質子(proton)的化學位移(clemical shift)最可能出現於核磁共振光譜圖上那一個位置?
(A) 0~2ppm
(B) 6~8ppm
(C) 9~10ppm
(D) 10.5~12ppm
答案:D
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19 下列何者不是影響質子化學位移的因素?
(A) Anisotropic effect
(B) Inductive effect
(C) Mesomeric effect
(D) Nuclear overhauser effect
答案:D
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44 苯環、醛基結構上的質子化學位移都比一般不飽和氫高,其原因是:
(A) 電子的遮蔽效應(shielding effect)
(B) 各向異性效應(anisotropic effect)
(C) 共振效應(mesomeric effect)
(D) 誘導效應(inductive effect)
答案:B
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23.下列何者不是影響氫核磁共振譜化學位移(ppm)的因素?
(A) 陰電性(electronegativity)
(B) 外加磁場強度(magnetic strength)
(C) 環流效應(ring current effect)
(D) 共振效應(mesomeric effect)
答案:B
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22.在氫核磁共振譜中,下列標示的H何者的化學位移最大?
(A) 

(B) 

(C) 

(D)
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答案:D
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