15. 下列何種酸可應用以去除矽晶片表層的 SiO₂氧化層？ (A) HF (B) HCl (C) HBr (D) HI (E) HClO₄

22. 利用離子層析儀進行 F⁻, Cl⁻, Br⁻ 和 SO₄²⁻ 等陰離子的分析測定，試問在層析圖譜中，上述離子被沖堤出的先後順序？ (A) SO₄²⁻ > F⁻ > Cl⁻ > Br⁻ (B) F⁻ > SO₄²⁻ > Cl⁻ > Br⁻ (C) F⁻ > Cl⁻ > SO₄²⁻ > Br⁻ (D) F⁻ > Cl⁻ > Br⁻ > SO₄²⁻ (E) F⁻ > Br⁻ > Cl⁻ > SO₄²⁻

15. 下列何種酸可應用以去除矽晶片表層的 SiO₂氧化層？
(A) HF
(B) HCl
(C) HBr
(D) HI
(E) HClO₄

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15. 下列何種酸可應用以去除矽晶片表層的 SiO₂氧化層？(A) HF(B) HCl(C) HBr(D) HI(E) HClO₄

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15. 下列何種酸可應用以去除矽晶片表層的 SiO₂氧化層？
(A) HF
(B) HCl
(C) HBr
(D) HI
(E) HClO₄