題組內容

四、現代半導體的先進 CMOS 製程技術中會有許多道離子佈植步驟,請回答 以下與離子佈植製程相關之兩子題:

(二)請就一 n 型 MOSFET 元件中的 LDD(lightly doped drain) 、halo 與 APT (anti-punch through)等三項離子佈植步驟,說明其主要目的與植入雜質型式(n 型、p 型或均可) 。(15 分)