五、請依據1.光阻的作用；2.曝光與光罩關係；3.顯影的目的；4.解析度與線寬對製程的影響；5.微影製程失敗對良率的影響，說明光阻塗佈／曝光／顯影等「微影製程」在半導體製程中的功能與重要性。(20分)

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